В России создали установку для производства микросхем

Российские инженеры разработали установку для плазмохимического осаждения (ПХО) на кремниевых пластинах диаметром 300 мм. Опытный образец создан в Научно-исследовательском институте точного машиностроения (НИИТМ), входящем в группу компаний «Элемент».