Резидент ОЭЗ «Технополис Москва» тестирует первый российский фоторезист 90 нм

Резидент особой экономической зоны (ОЭЗ) «Технополис Москва» завод «Микрон» тестирует первый отечественный фоторезист для производства микросхем по 90-нанометровому технологическому процессу, его внедрение обеспечит предприятию независимость от зарубежных аналогов, сообщила пресс-служба столичного департамента инвестиционной и промышленной политики со ссылкой на заместителя мэра города по вопросам транспорта и промышленности Максима Ликсутова.

Как отмечается, в среднесрочной перспективе завод «Микрон» планирует полностью перейти на российскую компонентную базу в сфере сверхчистых и новых материалов. Первый отечественный фоторезист был разработан компанией «НИИМЭ», которая также имеет статус резидента ОЭЗ столицы.

«За время деятельности ОЭЗ Москвы, которая предоставляет резидентам широкий пакет налоговых льгот, производители микроэлектроники инвестировали в свое развитие свыше 75 млрд руб. Это позволило им выпустить высокотехнологичной продукции на более чем 174 млрд руб. Многие предприятия активно внедряют в производство отечественную электронную компонентную базу нового технического уровня, что во многом определит будущее отрасли. Так, резидент ОЭЗ столицы, являющийся одним из ведущих производителей микроэлектроники страны, успешно тестирует первый отечественный фоторезист для фотолитографических процессов с нормами 90 нм. Это станет настоящим прорывом для отрасли», – приводятся в сообщении слова Ликсутова.

Уточняется, что фоторезист, созданный на основе полимера, является одним из ключевых элементов в производстве микросхем с помощью фотолитографии. Так, этот светочувствительный материал наносится на кремниевую подложку, которая облучается с помощью фотолитографа через специальный шаблон. После многократного облучения на пластине создается рельефный «рисунок» микросхемы. Поскольку в России собственное фотолитографическое оборудование только начинает создаваться, то производство фоторезистов практически не было налажено.

Как рассказал руководитель департамента инвестиционной и промышленной политики Анатолий Гарбузов, которого цитирует пресс-служба, в настоящее время резидент ОЭЗ Москвы завод «Микрон» является единственным в России производителем микросхем с топологией 180–90 нм. «Его чипы используются в банковских картах НСПК «Мир», загранпаспортах, водительских удостоверениях, транспортной карте «Тройка», школьной карте «Москвенок». Предприятие обладает около 80 действующими патентами и свидетельствами по ключевым продуктам, прошедшим государственную регистрацию. Мощная научная база позволяет резиденту активно замещать импортную компонентную базу и материалы – на сегодня им успешно внедрены в производство 16 сверхчистых химических материалов и 25 специальных электронных газов отечественного производства и еще 23 элемента находятся на стадии разработки», – пояснил он.

В ведомстве добавили, что отечественный фоторезист для техпроцессов 90 нм был разработан другим резидентом ОЭЗ Москвы – НИИ Молекулярной электроники при поддержке министерства промышленности и торговли России. Генеральный директор «НИИМЭ» Александр Кравцов, которого также цитирует пресс-служба, рассказал, что кооперация отечественных научных центров и отраслевых предприятий во главе с «НИИМЭ» успешно разработала, провела тестирование и апробацию первого полностью российского фоторезиста для технологии 90 нм. Так, материал обладает всеми необходимыми свойствами, чтобы успешно конкурировать с зарубежными аналогами. Предприятием уже разработано семь специальных материалов, еще 10 находятся в разработке и ведется постановка трех работ.

По словам генерального директора предприятия «Микрон» Гульнары Хасьяновой, которые приводятся в материале, деятельность по импортозамещению материалов для микроэлектроники необходимо вести в кооперации с научными учреждениями – тогда исследования сразу переходят в производство. «Отечественный фоторезист для техпроцесса 90 нм – это важная веха, как для завода «Микрон», который ведет беспрецедентную в мировой практике замену материалов на действующем производстве, так и для всей отрасли», – подчеркнула она.

Отмечается, что в ОЭЗ «Технополис Москва» также разработан первый отечественный фотолитограф для техпроцесса 350 нм.

В свою очередь, генеральный директор ОЭЗ «Технополис Москва» Геннадий Дегтев, слова которого приводятся в сообщении, уточнил, что создание передовых разработок стало возможным, в том числе благодаря мерам поддержки, которые оказывает особая экономическая зона Москвы. «Так за время своей деятельности резиденты ОЭЗ столицы сэкономили на налогах свыше 14,8 млрд руб. При этом они вложили в развитие своих производств 215 млрд руб. инвестиций», – добавил он.

В пресс-службе напомнили, что более 60 столичных предприятий работают в сфере микроэлектроники и фотоники, из них около 40 являются резидентами ОЭЗ «Технополис Москва». Предприятия активно занимаются замещением зарубежной продукции, выпуская микросхемы, оптико-электронные приборы, смарт-карты, RFID-продукцию и другие высокотехнологичные изделия. Масштабная поддержка города позволяет им вкладывать серьезные средства в новые разработки и производственные мощности.