В РОССИИ СОЗДАЛИ УСТАНОВКУ ВАКУУМНОГО МАГНЕТРОННОГО НАНЕСЕНИЯ ТОНЧАЙШИХ ПОКРЫТИЙ

 

Специалисты научного центра Санкт-Петербургского политехнического университета Петра Великого создали установку вакуумного магнетронного осаждения, которая наносит тончайшие покрытия из различных материалов путем распыления атомов. С ее помощью можно в короткие сроки модернизировать оборудование советского периода на мелкосерийных предприятиях: 3-4 месяца при поставке базового вакуумного магнетрона и 9 месяцев в случае разработки магнетрона под более сложные требования.

Установка предназначена для осаждения заданной толщины от 10 нм до десятков мкм на подложки кремния, карбида кремния, алмаза, кварца путем распыления атомов мишени. В процессе магнетронного осаждения ключевую роль играет так называемая мишень — источник материала для покрытия. При подаче напряжения на магнитную систему в магнетроне и потоке инертного газа генерируется плазма за счет столкновения электронов с молекулами газа. Это приводит к образованию ионов, которые выбивают атомы материала мишени, а те осаждаются на поверхности объекта, образуя тончайший слой.

Магнетрон позволяет распылять не только ферромагнитные металлы. Способность установки использовать мишени как с косвенным, так и с прямым охлаждением дает возможность работать с такими материалами мишени как индий-олово, оксид которого используется при создании солнечных элементов в качестве просветляющих покрытий и в приложениях, где нужны прозрачные проводящие контакты.

Изделия, полученные путем вакуумного магнетронного осаждения, используются в качестве маскирующего материала или проводящего/диэлектрического материала в микроэлектронике, оптоэлектронике, фотовольтаике при создании защитных и декоративных покрытий, а также для инструментов в различных сферах от автомобилестроения до медицины.

  Минобрнауки России