Китай производит в 2 раза больше исследовательских работ, связанных с проектированием и производством микросхем, по сравнению с США. Такие данные предоставил американский аналитический центр "Обсерватория новейших технологий" (ETO), о чем сообщило гонконгское издание South China Morning Post 5 марта.
По информации ETO, которая функционирует при Джорджтаунском университете, такое превосходство Китая в научных публикациях закладывает основу для потенциального лидерства в сфере полупроводниковых технологий следующего поколения.
Невзирая на то что Китай отстает в создании высоких технологий и не имеет возможности приобретать современное оборудование для производства микросхем, с 2018 по 2023 год китайские исследователи опубликовали 160 852 статьи, касающиеся данной области. Этот показатель превосходит общее количество публикаций трех стран, следующих за Китаем: США, Индии и Японии.
Также ETO обнаружила, что китайские исследовательские учреждения заняли 9 позиций в десятке ведущих авторов статей о микросхемах за указанный период и 8 мест среди высокоцитируемых публикаций. Китайская академия наук оказалась самым продуктивным издателем исследований в области проектирования и производства микросхем в стране, а также лидировала по количеству цитируемости в данной категории.